吸湿加工剤

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-258485
公開番号（公開出願番号）：特開2000-084345
出願日： 1998年09月11日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：

【要約】【課題】本発明は、吸湿率のバラツキが大きい問題点を解決し、加工反内、加工反間等での吸湿率レベルのバラツキが大幅に低減し、優れた吸湿性及びその耐久性を安定して付与することのできる吸湿加工剤を提供することにある。【解決手段】下記一般式(1)で示される吸湿性モノマーと下記一般式(2)で示されるポリオキシエチレン系ポリエーテルとを主たる構成成分とし、水を媒体とする吸湿加工剤であって、該吸湿加工剤の曇点が40°C以上である吸湿加工剤にある。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される吸湿性モノマーと下記一般式(2)で示されるポリオキシエチレン系ポリエーテルとを主たる構成成分とし、水を媒体とする吸湿加工剤であって、該吸湿加工剤の曇点が40°C以上であることを特徴とする吸湿加工剤。【化1】(式中、Xは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、フェニル基、Yは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、-COOM基、Zは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、-CH2COOM基、Mは金属を示す)【化2】(式中、Aは1〜6の活性水素を有する分子量300以下の有機化合物残基、R1はエチレン基を主体とするアルキレン基、R2はアクリロイル基、又は、メタクリロイル基であり、一部は水素原子または低級アルキル基であってもよい。lは正の整数、kは1〜6の整数を示す)

IPC (7件)：

B01D 53/28 , B01J 20/26 , C08K 5/09 , C08L 33/02 , C08L 35/00 , C08L 71/00 , D06M 15/53

FI (7件)：

B01D 53/28 , B01J 20/26 A , C08K 5/09 , C08L 33/02 , C08L 35/00 , C08L 71/00 Y , D06M 15/53

Fターム (42件)：

4D052CA02 , 4D052FA01 , 4D052GA03 , 4D052GA04 , 4D052GB02 , 4D052GB12 , 4D052GB17 , 4D052HA27 , 4D052HA34 , 4D052HA49 , 4D052HB02 , 4D052HB05 , 4D052HB06 , 4G066AB06A , 4G066AB07A , 4G066AC12B , 4G066AC17B , 4G066AC23C , 4G066AD15B , 4G066AE06B , 4G066BA02 , 4G066BA03 , 4G066BA36 , 4G066CA43 , 4G066DA03 , 4G066FA09 , 4G066FA12 , 4G066FA21 , 4G066FA34 , 4G066FA37 , 4J002CH05W , 4J002DE027 , 4J002EG026 , 4J002EG056 , 4J002HA04 , 4L033AB01 , 4L033AC07 , 4L033BA19 , 4L033CA48 , 4L033DA02 , 4L033DA06 , 4L033DA07

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