特許
J-GLOBAL ID:200903027134588730

欠陥検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-205766
公開番号(公開出願番号):特開平11-051616
出願日: 1997年07月31日
公開日(公表日): 1999年02月26日
要約:
【要約】【課題】本発明の目的は、被検査体上の欠陥の、特徴量を正確に測定する装置を提供することであり、さらに製品上の欠陥を検査することによる製品歩留まりの向上、製造コストの低減を図ることである。【解決手段】欠陥検査装置において、複数の照明系で欠陥に対し照射する。欠陥の投影面積と検出光量の関係は物質により決定し比例関係であり、これにより検出光量から基板上の欠陥の特徴量を測定する。
請求項(抜粋):
薄膜基板上の欠陥を検出する欠陥検査装置において、前記基板を載置して任意に移動可能なステージおよびその駆動制御系からなる検査ステージ部と、薄膜基板を複数方向から照射する独立した光源を有する照明系と、各照明系の照射により発生する散乱光、および回折光を検出器に検出させる検出光学系と、前記検出器出力から欠陥の特徴量を照明の各方向毎に演算する信号処理系を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (4件):
G01B 11/02 ,  G01B 11/28 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/66
FI (5件):
G01B 11/02 Z ,  G01B 11/28 Z ,  G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z

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