特許

J-GLOBAL ID：200903027154461893

深さ測定装置及び深さ測定方法

発明者： 佐藤 雅晴 ,  益川 和之
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276254
公開番号（公開出願番号）：特開2001-099622
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】処理開始時における薄膜の膜厚、試料と薄膜の選択比、開口率、穴の径及び形状等を考慮することで、深さ測定をより高精度に行うことができる深さ測定装置を提供すること。【解決手段】試料Wに所定の処理を行うチャンバ31と、検出光を試料に照射し、試料からの反射光に基づいて試料上の薄膜の膜厚値を測定する膜厚測定手段と、上記検出光を試料に照射し、試料からの反射光に基づいて試料上に形成される穴の深さを測定する深さ測定手段とを備え、上記深さ測定手段は、上記処理手段による処理開始前の上記膜厚値に基づいて上記深さを補正するようにした。

請求項（抜粋）：

表面に薄膜が形成された試料に検出光を照射して上記表面側に形成された穴部の深さを測定する深さ測定装置において、上記試料に所定の処理を行う処理手段と、上記検出光を試料に照射し、試料からの反射光に基づいて上記試料上の上記薄膜の膜厚値を測定する膜厚測定手段と、上記検出光を試料に照射し、試料からの反射光に基づいて上記試料上に形成される穴の深さを測定する深さ測定手段と、上記薄膜表面からの反射光と上記穴部からの反射光強度比を求める反射光強度比測定手段とを備え、上記深さ測定手段は、上記反射光強度比に基づいて上記深さを補正することを特徴とする深さ測定装置。

IPC (4件)：

G01B 11/22 ,  G01B 11/06 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01B 11/22 G ,  G01B 11/06 G ,  H01L 21/66 P ,  H01L 21/302 Z

Fターム (42件)：

2F065AA25 ,  2F065AA30 ,  2F065CC17 ,  2F065EE05 ,  2F065FF44 ,  2F065FF51 ,  2F065GG21 ,  2F065HH03 ,  2F065HH13 ,  2F065HH17 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ17 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL22 ,  2F065LL67 ,  2F065PP01 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ38 ,  4M106AA01 ,  4M106AA10 ,  4M106BA04 ,  4M106CA48 ,  4M106DH03 ,  4M106DH04 ,  4M106DH12 ,  4M106DH31 ,  4M106DH38 ,  4M106DH40 ,  4M106DH55 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ20 ,  5F004BB05 ,  5F004CB09 ,  5F004CB16