特許
J-GLOBAL ID:200903027155648733

不純物イオン発生装置及びこれを用いた質量分析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 四宮 通
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-101912
公開番号(公開出願番号):特開平9-270245
出願日: 1996年04月01日
公開日(公表日): 1997年10月14日
要約:
【要約】【課題】 外部に放出される不純物イオン数を増大化する。【解決手段】 チャンバー40は、ガス流入口40a、ガス流出口40b及び不純物イオン放出用の細孔41を有する。ガス流入口40aから流入されたガスは、主に細孔41付近を通過してガス流出口40bから流出するが、その一部は細孔41から流出する。流入したガスは、筒状電極34と放電針44との間で生ずるコロナ放電により一次イオン化される。この一次イオン化箇所と細孔41との間には、筒状電極34及び電極38により、コロナ放電動作と独立して、所望の電位勾配が形成される。一次イオン化に引き続いてイオン分子反応が起こることにより不純物イオンが発生し、この不純物イオンが細孔41を介して外部に放出される。
請求項(抜粋):
ガス流入口、ガス流出口及び不純物イオン放出用の細孔を有し、前記ガス流入口から流入されたガスを主に、前記細孔付近を通過させて前記ガス流出口から流出させるチャンバーと、前記ガスが前記細孔に向かう前記チャンバー内の箇所において前記ガスを少なくとも一次イオン化するイオン化手段と、前記イオン化手段によるイオン化動作と独立して、前記箇所付近と前記細孔付近との間に所望の電位勾配を形成する電位勾配形成手段と、を備えたことを特徴とする不純物イオン発生装置。
IPC (4件):
H01J 49/18 ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/26 ,  G01N 27/62
FI (5件):
H01J 49/18 ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/26 ,  G01N 27/62 G ,  G01N 27/62 F
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • ガス分析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-041330   出願人:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
  • 大気圧イオン化質量分析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-090382   出願人:日立東京エレクトロニクス株式会社
  • 特開昭59-035347
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