特許

J-GLOBAL ID：200903027158565359

ポジ型ホトレジスト組成物

発明者： 土井 宏介 ,  中緒 卓 ,  高橋 浩一 ,  徳竹 信生 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-264097
公開番号（公開出願番号）：特開平6-089027
出願日： 1992年09月08日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂と(B)一般式【化1】及び【化2】(式中のR1は炭素数2以上のアルキル基、D1、D2はそれぞれ少なくとも1個がナフトキノン-(1,2)-ジアジド-(2)-4(又は5)-スルホニル基で残りは水素原子であり、k、m、nは0〜3)で表わされる化合物の組合せから成る感光性成分とを含有するポジ型ホトレジスト組成物。【効果】 解像度、断面形状、感度及びデフォーカス特性に優れる上、定在波効果が抑制されたポジ型ホトレジスト組成物である。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂と(B)感光性成分とを含有して成るポジ型ホトレジスト組成物において、該(B)成分の感光性成分として、(イ)一般式【化1】(式中のR1は炭素数2以上のアルキル基、D1は少なくとも1個がナフトキノン-(1,2)-ジアジド-(2)-4-スルホニル基又はナフトキノン-(1,2)-ジアジド-(2)-5-スルホニル基で、残りは水素原子である)で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種と、(ロ)一般式【化2】(式中のD2は少なくとも1個がナフトキノン-(1,2)-ジアジド-(2)-4-スルホニル基又はナフトキノン-(1,2)-ジアジド-(2)-5-スルホニル基で、残りは水素原子であり、k、m及びnは0又は1〜3の整数である)で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種との組合せを用いたことを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027