X線制御装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西岡義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-077751
公開番号（公開出願番号）：特開平9-266094
出願日： 1996年03月29日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：

【要約】【課題】本撮影の撮影条件に対応したフラッシュ量でX線管のフィラメントをフラッシュする。【解決手段】予備X線条件設定器22で設定された管電圧、管電流とそれらに対応するメモリ19から読み出されたフィラメント加熱電流でもって予備X線放射を行なう。その際の被検体を透過したX線量を半導体検出器7、積分器8で検出し、その検出デジタル信号で本撮影時の撮影条件(管電圧、管電流)を撮影条件算出器10で算出する。算出された撮影条件でそれらに対応するフィラメント加熱電流がメモリ19から読み出され、また、フラッシュ量がメモリ21から読み出され、両者の加算フィラメント電流と算出された撮影条件で本X線放射が行なわれ、本撮影が行なわれる。

請求項（抜粋）：

予備X線放射を行ない、その際の被検体の透過X線量より本撮影の撮影条件を求める機能を有するX線制御装置であって、予備X線放射の放射条件におけるフィラメント加熱量と算出された本撮影の撮影条件におけるフィラメント加熱量からフィラメントに一時的に大電流を流しフラッシュするフラッシュ量を算出する手段と、この算出されたフラッシュ量で本撮影の直前にフィラメントに一時的に大電流を流しフラッシュする手段とよりなるフィラメント加熱制御回路を備えたことを特徴とするX線制御装置。

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