特許
J-GLOBAL ID：200903027166336164
レジスト現像液及びパタン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-310896
公開番号（公開出願番号）：特開平5-142787
出願日： 1991年11月26日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 被加工体上にレジストパタンを形成する工程において、レジスト現像時間を短縮し量産性を向上させるとともに、現像液による基板の腐食を低減する。【構成】 TMAHアルカリ水溶液にCnH2n+1OH又はCn'H2n'+1COCn"H2n"+1(但し、n、n’及びn”は整数、1≦n≦7、1≦n’≦4、n’≦n”≦n’+3)で示されるアルコール又はケトンを少なくとも1含んでなるレジスト現像液及び該現像液を用いるパタン形成方法。
請求項（抜粋）：
アルカリ水溶液に一般式CnH2n+1OH又はCn'H2n'+1COCn"H2n"+1(但し、n、n’及びn”は整数であり、1≦n≦7、1≦n’≦4、n’≦n”≦n’+3である。)で示されるアルコール又はケトンを少なくとも1混合してなるレジスト現像液。
IPC (2件)：
引用特許：
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