特許

J-GLOBAL ID：200903027173673540

レジストパターン及び成形金型の製造方法

発明者： 押野 哲也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-127419
公開番号（公開出願番号）：特開平9-311460
出願日： 1996年05月22日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】【課題】 微細で非矩形(例えば、テーパ状)のパターン断面形状を有するレジストパターンを形成できるレジストパターンの製造方法と、微細で複雑な形状を有する成形品を高い歩留りで作製することができる成形金型(例えば、微細なテーパ状のパターン断面形状を有する成形金型)の製造方法を提供すること。【解決手段】 少なくとも、基板1上にレジスト層2を形成する工程と、前記レジスト層2上にエッチングマスク3を形成して、該レジスト層2に酸素ガスとフッ素ガスの混合ガスを用いた反応性イオンエッチングを施すことにより、パターン状のレジスト層2aを形成する工程と、前記パターン状のレジスト層2aが形成された基板上に、前記パターンの反転パターンを有するメッキ層4aを形成する工程と、前記パターン状のレジスト層2a及び基板1をエッチングにより除去して、メッキ層4aからなる金型を形成する工程と、を備えた成形金型の製造方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも、基板上にレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層上にエッチングマスクを形成して、該レジスト層に酸素ガスとフッ素ガスの混合ガスを用いた反応性イオンエッチングを施すことにより、パターン状のレジスト層を形成する工程と、を備えたレジストパターンの製造方法。

IPC (4件)：

G03F 7/36 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/3065 ,  B41J 2/16

FI (4件)：

G03F 7/36 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/302 H ,  B41J 3/04 103 H