特許

J-GLOBAL ID：200903027192634297

ビーム整形光学系および記録再生装置

発明者： 高橋 義孝
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-095985
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292738
出願日： 1999年04月02日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】カップリングレンズを兼ねたビーム整形光学系を用いる記録再生装置において、ビーム整形光学系の設計を容易化する。【解決手段】半導体レーザからの光束を、対物レンズにより記録媒体の記録面上に光スポットとして集光させ、情報の記録・再生・消去の1以上を行う記録再生装置において、半導体レーザからの光束を平行光束化するとともに、半導体レーザの活性層に平行な方向の光束径を拡大するビーム整形光学系であって、半導体レーザの活性層と平行的に対応する方向(Y方向)と、活性層に直交的に対応する方向(X方向)とにおいて、互いに異なる焦点距離を有する単一のアナモルフィックレンズ20として構成され、中心肉厚:D(mm)が条件:(1)9≦D≦12.5を満足する。

請求項（抜粋）：

半導体レーザからの光束を、対物レンズにより記録媒体の記録面上に光スポットとして集光させ、情報の記録・再生・消去の1以上を行う記録再生装置において、上記半導体レーザからの光束を平行光束化するとともに、上記半導体レーザの活性層に平行な方向の光束径を拡大するビーム整形光学系であって、半導体レーザの活性層と平行的に対応する方向と、上記活性層に直交的に対応する方向とにおいて、互いに異なる焦点距離を有する単一のアナモルフィックレンズとして構成され、中心肉厚:D(mm)が条件:(1)9≦D≦12.5を満足することを特徴とするビーム整形光学系。

IPC (2件)：

G02B 27/09 ,  G11B 7/135

FI (2件)：

G02B 27/00 E ,  G11B 7/135 A

Fターム (4件)：

5D119AA38 ,  5D119JA06 ,  5D119JB03 ,  5D119JB05