特許
J-GLOBAL ID：200903027205359096
ガス供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-258576
公開番号（公開出願番号）：特開平5-068826
出願日： 1991年09月09日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：
【要約】【目的】 フィルタ部に捕捉したパーティクルの再放出を防止し、今まで以上にパーティクルの下流側への流出防止を図り、クリーンなガスを供給すること。【構成】 固定用構造体1の両端の垂直パネル部1a、1bにガス配管接続部2a、2bを取り付けると共に、これらの間に上流側からガスフィルタFa、バルブV、マスフロコントローラMFC、ガスフィルタFbを配置し、構造体1の一部をなす垂直パネル部4a、4bに夫々ガスフィルタFa、Fbを、例えば内臓されているステンレスメッシュに相当する位置にて固定する。機械振動がガスフィルタFa、Fbに伝播してもガスフィルタFa、Fbの固定部分が振動の節になるので振動が極力抑えられ、補足したパーティクルの離脱を防止できる。
請求項（抜粋）：
ガス供給路中に設けられたガスフィルタを含む配管機器と、装置本体を固定するための固定部とを備え、ガス供給源よりの処理ガスを配管機器を介して処理部に供給するためのガス供給装置において、前記ガスフィルタを固定部に固定することを特徴とするガス供給装置。
IPC (6件)：
B01D 46/00
, H01L 21/205
, H01L 21/22
, H01L 21/302
, H01L 21/304 341
, H01L 21/265
