イオン交換膜、およびその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-201498
公開番号（公開出願番号）：特開2004-043594
出願日： 2002年07月10日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】補強織布により充分な強度が付与され、電解槽で使用する際にも犠牲糸溶出孔から膜外へ陽極液が漏洩することのないイオン交換膜の提供。【解決手段】強化織布が埋め込まれたイオン交換膜であって、その断面において、強化糸間に犠牲糸溶出孔1〜32個が存在し、強化糸間に存在する犠牲糸溶出孔の断面積の合計が3000μm2以下であるイオン交換膜。強化糸と犠牲糸からなる強化織布を、イオン交換基の前駆体基を有する重合体からなる膜に埋め込んだ後、犠牲糸を溶出させる工程、イオン交換基の前駆体基をイオン交換基に変換する工程を含むイオン交換膜の製造方法において、犠牲糸を20デニール未満とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

強化織布が埋め込まれたイオン交換膜であって、その断面において、強化糸間に犠牲糸溶出孔が1〜32個存在し、強化糸間に存在する犠牲糸溶出孔の断面積の合計が3000μm2以下であることを特徴とするイオン交換膜。

IPC (1件)：

C08J5/22

FI (1件)：

C08J5/22

Fターム (14件)：

4F071AA01 , 4F071AA06 , 4F071AA07 , 4F071AD01 , 4F071AG06 , 4F071BC01 , 4F071FA02 , 4F071FA05 , 4F071FC01 , 4F071FC02 , 4F071FC03 , 4F071FC04 , 4F071FC06 , 4F071FD03

引用特許：

審査官引用 (1件)

変更レノ・ウイーブフアブリツクで強化された膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-286089 出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー

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