特許

J-GLOBAL ID：200903027221501153

半導体超微粒子分散材料およびその製造方法

発明者： 水間 浩一 ,  林 豊治 ,  河関 孝志 ,  平賀 隆 ,  守谷 哲郎
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  三井東圧化学株式会社
代理人 (2件)： 若林 忠 (外1名) ,  若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-199020
公開番号（公開出願番号）：特開平10-036517
出願日： 1996年07月29日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：

【要約】【課題】 分散性に優れた半導体超微粒子を含む安定性、量産性、操作性に優れた中間材料を提供する。【解決手段】 金属化合物と単量体存在下、光を合成中の半導体超微粒子に照射して製造される半導体超微粒子分散液に、ポリマーまたはポリマー溶液を加えて得られた溶液を、ポリマーに対しては貧溶媒、未反応の金属化合物に対しては良溶媒であるところの溶媒と混合して析出沈澱させ、得られた析出物を濾別し、減圧乾燥することにより半導体超微粒子分散材料を製造する。

請求項（抜粋）：

金属化合物と単量体存在下、光を合成中の半導体超微粒子に照射して製造される半導体超微粒子分散液に、ポリマーまたはポリマー溶液を加えて得られた溶液を、ポリマーに対しては貧溶媒、未反応の金属化合物に対しては良溶媒であるところの溶媒と混合して析出沈澱させ、得られた析出物を濾別し、減圧乾燥することにより製造される半導体超微粒子分散材料。

IPC (5件)：

C08J 3/14 CER ,  C08F 2/44 MCQ ,  C08F 2/48 MDH ,  G02F 1/35 503 ,  C08L 57:00

FI (4件)：

C08J 3/14 CER ,  C08F 2/44 MCQ ,  C08F 2/48 MDH ,  G02F 1/35 503

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 半導体超微粒子の製造方法および非線形光学材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-144492   出願人：三井東圧化学株式会社