特許
J-GLOBAL ID：200903027235879884
レーザ描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-189465
公開番号（公開出願番号）：特開平9-033839
出願日： 1995年07月25日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【目的】レーザ光の集光点位置調整を簡単な構成で高精度に行なえるレーザ描画装置を提供する。【構成】レーザダイオード113から射出されたレーザ光を反射し、偏向して走査するガルバノメータ121、ガルバノメータ121で反射したレーザ光を集光するfθレンズ123、fθレンズ123を透過したレーザ光を透過および描画面方向に反射するビームスプリッタ125、ビームスプリッタ125で反射したレーザ光の走査位置をビームスプリッタ125を透過したレーザ光を介して間接的に検知するビームディテクタ127を備え、前記ビームスプリッタ125を、fθレンズ123の光軸に沿って接離移動してビームスプリッタ125で反射したレーザ光の集光点P位置を調整する調整機構143を備えた。
請求項（抜粋）：
走査手段で走査されるレーザ光を集光する集光手段;集光手段を透過したレーザ光を反射および透過して分割する光束分割手段;を備え、この光束分割手段で反射したレーザ光で描画し、透過したレーザ光で描画するレーザ光の位置を検知するレーザ描画装置であって、前記光束分割手段を移動して反射したレーザ光の集光位置を調整する位置調整手段を備えたこと、を特徴とするレーザ描画装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 26/10 D
, B41J 3/00 D
出願人引用 (3件)
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特開平1-156713
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特開昭61-105531
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特開昭61-086723
審査官引用 (2件)
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