特許
J-GLOBAL ID：200903027236950027
放射線硬化性組成物およびこれを用いた硬化物パターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-077043
公開番号（公開出願番号）：特開平9-263638
出願日： 1996年03月29日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：
【要約】【課題】 硬化に伴う重量減少が非常に少なく、低い強度の紫外線による硬化が可能で、かつ保存安定性のよい硬化物を与える放射線硬化性組成物、及びこれを利用した硬化物パターン製造方法を提供する。【解決手段】 紫外線の作用により塩基を発生する塩基発生物質と、この塩基の作用で水酸基と反応しケイ素酸素結合(Si-O)と水素分子(H2)を形成しうるケイ素水素結合(Si-H) を有するシリコーン重合体分子、及び酸物質とを含む硬化性組成物。この組成物に紫外線を照射して硬化させる。この紫外線照射時に上記組成物の被膜と放射線源の間にマスクを置き、未硬化の組成物を溶解除去してパターンを形成し、この残存部分を加熱し、パターン硬化物を製造する。
請求項（抜粋）：
(イ)放射線の作用により塩基を発生する塩基発生物質と、(ロ)この塩基の作用で水酸基(OH)と反応しケイ素酸素結合(Si-O)と水素分子(H2)を形成しうるケイ素水素結合(Si-H)を有する重合体分子と、(ハ)酸物質からなる硬化性組成物で、(イ)の塩基発生物質がベンジルカルバメイト化合物、ベンゾインカルバメイト化合物、O-カルバモイルヒドロキシアミン類、O-カルバモイルオキシム類、芳香族スルホンアミド類、α-ラクトン類、N-(2-アリルエテニル)アミド類、アリールアジド化合物類、N-アリールホルムアミド類、およびN-置換4-(o-ニトロフェニル)ジヒドロピリジン類から選ばれたものであり、これが全重量に対し、0.01〜20wt%の範囲で含まれ、(ロ)の重合体分子の平均組成が下記の一般式で示されるものであり、(R2 SiO2/2)a (RSiO3/2)b (1)(式中、R2 SiO2/2 、およびRSiO3/2 中のRはそれぞれ独立に水素原子及び炭素数1〜8の炭化水素基およびその誘導体から選ばれるモノラジカルである。ただしR2 SiO2/2 における2つのRのうち少なくとも一方が水素原子であるものと、RSiO3/2 のうちRが水素原子であるものとの和が少なくともa+bの5%以上である。R2 SiO2/2 、およびRSiO3/2 のケイ素原子に結合している2価の酸素原子のうちそれぞれ少なくとも1つは、他のケイ素に結合してシロキサン結合を形成しているが、残りの酸素原子は他のケイ素に結合してシロキサン結合を形成していても、メチル基あるいはエチル基に結合してアルコキシ基を形成しても、水素に結合してシラノール基を形成してもよい。一般式(1)で、0≦a≦1、0≦b≦1、a+b=1。)(ハ)の酸物質がカルボン酸、フェノール類、リン酸類、酸無水物類から選ばれるものであり、これを(イ)の塩基発生物質に対して、90モル%以下含むことを特徴とする前記硬化性組成物。
IPC (3件)：
C08G 77/12 NUG
, C08G 77/16 NUB
, C08L 83/05 LRS
C08G 77/12 NUG
, C08G 77/16 NUB
, C08L 83/05 LRS
