特許

J-GLOBAL ID：200903027269631393

洗浄装置

発明者： 神高 典明 ,  近藤 洋行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-173450
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026409
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】 凹凸がある物体表面(例えば、レチクルやウェハ等)の異物除去を十分に行うことが可能であり、しかも異物の再付着を防止できる洗浄装置を提供すること。【解決手段】 洗浄対象物の表面に付着した異物を除去することにより洗浄を行う洗浄装置において、前記表面に向けてパルス光を照射するパルス光照射機構を備え、前記パルス光が通過する開口であり、該パルス光が一度に照射される表面領域とほぼ同一形状の開口を有するマスク部材が、前記表面領域の近傍に前記開口が位置するように設けられ、前記開口を通過させてパルス光を前記表面領域に向け照射して前記異物を除去するとともに、除去した異物の洗浄対象物への再付着を前記マスク部材により防止することを特徴とする洗浄装置。

請求項（抜粋）：

洗浄対象物の表面に付着した異物を除去することにより洗浄を行う洗浄装置において、前記表面に向けてパルス光を照射するパルス光照射機構を備え、前記パルス光が通過する開口であり、該パルス光が一度に照射される表面領域とほぼ同一形状の開口を有するマスク部材が、前記表面領域の近傍に前記開口が位置するように設けられ、前記開口を通過させてパルス光を前記表面領域に向け照射して前記異物を除去するとともに、除去した異物の洗浄対象物への再付着を前記マスク部材により防止することを特徴とする洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/30 503 G