特許
J-GLOBAL ID：200903027269799588
洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-137381
公開番号（公開出願番号）：特開平10-296198
出願日： 1997年04月22日
公開日（公表日）： 1998年11月10日
要約：
【要約】【課題】 洗浄対象物へ与えるダメージの少なく低コストで容易かつ無害な基板の洗浄方法を提供する。【解決手段】 電解槽1に満たされた電解質水溶液3を多孔性中性膜からなり水が自由に流通できるイオン分離膜2により陰極槽1Aと陽極槽1Bとに分ける。そして使用する電極のうち特に陰極電極6Aにバッチ式の場合、上方に行くに従いイオン分離膜と電極の間隔を広くなるように設定し、連続式の場合、特に陰極電極6Aに適正な貫通穴を設けることにより、電極板とイオン分離膜の間の電解質溶液が飽和することなく、特に陰極水に効率よく水素ガス及びイオン発生が行われ、これを洗浄対象物表面に接触させることにより、ダメージ無く洗浄対象物表面に存在する汚染物質を除去することにより当該洗浄対象物表面の洗浄を行う。
請求項（抜粋）：
多孔性のイオン分離膜によって相互に分離された第1の槽と第2の槽の中に収容された電解質溶液を、該第1の槽内の電解質溶液を陰極側、該第2の槽内の電解質溶液を陽極側として、電気分解を行う電気分解工程と、前記電気分解工程で電気分解に供された前記第1の槽内の電解質溶液を電解中もしくは電解直後に洗浄対象物表面に接触させることにより、該洗浄対象物表面に存在する汚染物質を除去する洗浄工程と、を含む洗浄方法。
IPC (7件)：
B08B 3/08
, B01D 61/44 510
, C02F 1/46
, C23G 1/14
, C25F 3/14
, C25F 7/00
, H01L 21/304 341
B08B 3/08 A
, B01D 61/44 510
, C02F 1/46 A
, C23G 1/14
, C25F 3/14
, C25F 7/00 K
, H01L 21/304 341 T
