特許

J-GLOBAL ID：200903027270632336

ITOターゲットの製造方法

発明者： 栗原 敏也 ,  古仲 充之 ,  中島 光一
出願人/特許権者： 株式会社日鉱マテリアルズ
代理人 (1件)： 小越 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-120355
公開番号（公開出願番号）：特開2001-303239
出願日： 2000年04月21日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：

【要約】【課題】 スズの分散性を向上させることにより空孔を減少させ、ITO薄膜形成に好適なノジュール発生が少ないITO焼結体ターゲットを効率的に製造し、これによって膜の品質の低下や生産性の低下を抑制する。【解決手段】 水酸化インジウムを分散させた分散溶液とメタスズ酸を分散させた分散溶液を混合して混合分散溶液とし、この混合分散溶液を乾燥させた後焙焼し、これによって得た酸化物混合粉末の成形体を焼結することを特徴とするITOターゲットの製造方法。

請求項（抜粋）：

水酸化インジウムを分散させた分散溶液とメタスズ酸を分散させた分散溶液を混合して混合分散溶液とし、この混合分散溶液を乾燥させた後焙焼し、これによって得た酸化物混合粉末の成形体を焼結することを特徴とするITOターゲットの製造方法。

IPC (2件)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/495

FI (2件)：

C23C 14/34 A ,  C04B 35/00 J

Fターム (9件)：

4G030AA34 ,  4G030AA39 ,  4G030BA02 ,  4G030GA17 ,  4K029BA45 ,  4K029BA50 ,  4K029BC09 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09