特許

J-GLOBAL ID：200903027276622367

薄膜形成方法およびこの薄膜形成方法を用いた有機EL表示装置の製造方法

発明者： 伊藤 貴則
出願人/特許権者： 株式会社オートネットワーク技術研究所 ,  住友電装株式会社 ,  住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-115031
公開番号（公開出願番号）：特開2001-307875
出願日： 2000年04月17日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：

【要約】【課題】複数の工程を経ないで、基材に塗布された液材について塗布された領域の各部分に応じて厚みを調整して塗布膜を容易に形成する薄膜形成方法を提供する。【解決手段】 この薄膜形成方法は、基材12の上面に塗布された液材13を乾燥させる際に、基材12の下面の各部分にヒータなどの加熱器14もしくは放熱器15を設けて、基材12の各部分に応じて基材12から液材13に加えられる温度を変化させて、液材13の各部分に応じて液材13の乾燥する速さを制御することにより液材13の乾燥時の厚みを調整するものである。

請求項（抜粋）：

基材に塗布された液材について塗布された領域の各部分に応じて厚みを調整して乾燥させることにより薄膜を形成する薄膜形成方法であって、前記基材の上面に前記液材を塗布した状態で前記液材を加熱または放熱し、求められる前記液材の厚みに応じて、薄い部分ほど速く厚い部分ほど遅く乾燥するように、加熱または放熱する前記液材の乾燥条件を前記液材の領域毎に異ならせて前記薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。

IPC (5件)：

H05B 33/10 ,  B05D 3/00 ,  B05D 3/02 ,  B05D 7/00 ,  H05B 33/14

FI (5件)：

H05B 33/10 ,  B05D 3/00 F ,  B05D 3/02 Z ,  B05D 7/00 H ,  H05B 33/14 A

Fターム (15件)：

3K007AB02 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB92Z ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA05