特許
J-GLOBAL ID：200903027283355501
光化学的に安定なエキシマレーザー用遠紫外線ペリクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-211184
公開番号（公開出願番号）：特開平6-161094
出願日： 1993年08月26日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：
【要約】【目的】 ロボット自動製造装置で用いることができるバックライナーを有する、大気圧の差を通気解消する枠を有するペリクルを与える。【構成】 超研磨ホトマスク級ガラス基体上にニトロセルロース基体を被覆し、前記ニトロセルロース基体を0.5〜3.0μmの厚さを持つ膜とし、フルオロポリマーに清浄で非粘着性表面を与え、前記ニトロセルロース膜の上にフルオロポリマー膜を約0.5〜3.0μmの厚さに回転被覆し、前記フルオロポリマー膜に補修テープをフルオロ接着剤で結合し、前記補修テープを有する前記ガラス・ニトロセルロース・フルオロポリマー・フルオロ接着剤の組合せの上にステンレス鋼枠を取付け、そして前記ニトロセルロース基体から前記フルオロポリマー膜を剥がし、前記ステンレス鋼枠に付着した前記フルオロポリマー膜を得るフルオロポリマー膜製造方法。
請求項（抜粋）：
再使用可能なニトロセルロース基体上にフルオロポリマー膜を形成し、次にそのフルオロポリマー膜を分離する方法において、超研磨ホトマスク級ソーダ・石灰・ガラス基体上にニトロセルロース基体を被覆し、前記ニトロセルロース基体と前記ガラス基体の両方が欠陥又は汚染物を全く含まないようにし、前記ニトロセルロース基体を0.5〜3.0μmの厚さを持つ膜とし、フルオロポリマーに清浄で非粘着性表面を与え、前記ニトロセルロース膜の上にフルオロポリマー膜を約0.5〜3.0μmの厚さに回転被覆し、前記フルオロポリマー膜に補修テープをフルオロ接着剤で結合し、前記補修テープを有する前記ガラス・ニトロセルロース・フルオロポリマー・フルオロ接着剤の組合せの上にステンレス鋼枠を取付け、そして前記フルオロポリマー膜を前記ステンレス鋼枠に付着させたまま、前記ニトロセルロース基体から前記フルオロポリマー膜を剥がす、諸工程からなるフルオロポリマー膜製造方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
