特許
J-GLOBAL ID:200903027286839208

水酸アパタイト被膜の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 飯田 昭夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-275180
公開番号(公開出願番号):特開2001-097705
出願日: 1999年09月28日
公開日(公表日): 2001年04月10日
要約:
【要約】【課題】 金属製等の基材の表面に、密着性の良好なHAP被膜を適当な成膜速度で形成可能なHAP被膜の形成方法を提供すること。【解決手段】 水酸アパタイト(HAP)被膜を金属製等の基材表面に形成する方法。燐酸イオンとカルシウムイオンとを含む水溶液中においた基材を、通電加熱等することにより基材表面にHAP被膜を形成する。
請求項(抜粋):
水酸アパタイトCa10( PO4)6(OH)2被膜を基材表面に形成する方法であって、前記基材をリン酸イオンPO43- とカルシウムイオンCa2+とを含む水溶液中に浸漬後、前記基材のみを加熱して、前記基材上に水酸アパタイト被膜を形成することを特徴とする水酸アパタイト被膜の形成方法。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
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