特許
J-GLOBAL ID：200903027291174460
周期性構造物およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
磯村 雅俊
, 渡邉 昌幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-276626
公開番号（公開出願番号）：特開2004-117440
出願日： 2002年09月24日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：
【課題】簡便な方法でありながら良好な周期性構造物の形成を可能にする周期性構造物の製造方法および周期性構造物を提供すること。【解決手段】透過率の高い状態である第1段階(ステップS100)、続いて、透過率の減少する状態である第2段階(ステップS200)を経た後、最終段階として、周期性構造物を形成する(ステップS300)。例えば、分散液を2枚の基板間に展開し、微粒子の沈降と凝集力を利用することにより、該基板間に良好な周期性を有する微粒子の構造物を形成することが可能になる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
微粒子を用いて周期性構造物を形成する周期性構造物の製造方法において、
少なくとも、周期性構造の周期長から周期長の概ね3倍の波長からなる光を透過する第1の状態を形成する工程と、周期性構造の周期長から周期長の概ね3倍の波長からなる光の透過率が減少する第2の状態を形成する工程を経て周期性物構造を形成することを特徴とする周期性構造物の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2H047KA03
, 2H047PA02
, 2H047QA00
, 2H047QA02
, 2H047QA04
