X線発生装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：喜多俊文 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-190542
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007237
出願日： 2001年06月25日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】厚さの薄い試料やX線吸収が少ない試料について、コントラストのある鮮明なX線画像を得ることができるX線発生装置を提供する。【解決手段】透過型X線管のX線透過窓基材5の電子ビームが当たる局所部分を、凹部形状の薄部6bにして、その上部からターゲット金属6aを熱CVD法等によって形成する。その凹部からなるターゲット6を、円周上に複数個形成して、X線透過窓基材5を固定するホルダを、電子ビームの中心から偏心した状態にし、ターゲット6を回転して新しいターゲット6を使用する。電子ビームがターゲット6に当たるとX線を発生し、凹部形状の薄部6bは厚さが薄いので透過X線は軟X線成分の多いX線となり、厚さの薄い試料やX線吸収が少ない試料に照射して、コントラストのある鮮明なX線画像を得ることができる。

請求項（抜粋）：

陰極のフィラメントから放出された電子を加速収束させて陽極側のX線透過窓基材上に設けられたターゲット金属に衝突させ、透過方向にX線を発生させるX線発生装置において、電子が前記ターゲット金属に衝突し発生したX線が透過方向に通過する前記X線透過窓基材の部分のみを局部的に凹部にして薄くし、そのX線透過窓基材の凹部に前記ターゲット金属を蒸着したことを特徴とするX線発生装置。

IPC (5件)：

H01J 35/08 , G21K 5/00 , G21K 5/02 , G21K 5/08 , H01J 35/18

FI (5件)：

H01J 35/08 F , G21K 5/00 W , G21K 5/02 X , G21K 5/08 X , H01J 35/18

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