特許
J-GLOBAL ID：200903027296589927
金属イオン濃度が低い界面活性剤の製法及びこれから得られる現像剤
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江崎 光史 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-513625
公開番号（公開出願番号）：特表平11-512845
出願日： 1996年09月25日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：
【要約】本発明は、非常に低い濃度で金属イオンを含む界面活性剤を含む現像剤を製造する方法を提供する。
請求項（抜粋）：
非常に低い濃度で金属イオンを有する界面活性剤を含む現像剤の製造方法であって、a) 酸性イオン交換樹脂を、脱イオン水、次いで鉱酸溶液で洗浄し、これによって、このイオン交換樹脂中のナトリウム及び鉄イオン濃度をそれぞれ200ppb未満に低め;b) 脱イオン化された溶剤中1〜40重量%の界面活性剤溶液を用意し、c) この界面活性剤溶液を上記イオン交換樹脂に通し、これによってこの界面活性剤溶液中の全ナトリウム及び鉄イオンの濃度をそれぞれほんの1,000ppbに低め;d) 1) 適当な脱イオン化された溶剤中の、上記イオン交換樹脂で処理された界面活性剤溶液と 2) 適当な金属イオン不含の現像剤 との混合物を作ることによって、界面活性剤を含む現像剤組成物を調製する、ことを特徴とする上記方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/32
, H01L 21/30 569 E
