特許
J-GLOBAL ID：200903027301753455
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-170379
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017721
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：
【要約】【目的】 投影光学系の製造誤差に基づく結像特性の誤差等を補正し、投影光学系の本来の解像力を有効に活用できる投影露光装置を提供すること。【構成】 光源手段からの光束をマスクに照射することにより投影光学系を介してマスクパターンを感光基板上へ露光する投影露光装置の投影光学系が、光路中に挿脱可能に設けられた回折光学素子を備えているもの。回折光学素子は、光軸に対して非対称な回折パターンを有し、回折光学素子の基板と光学的に等しい形状を持つ光学部材が装着された状態で生ずる当該投影光学系の結像特性不良を補正するように構成される。
請求項（抜粋）：
光源手段からの光束をマスクに照射することにより、投影光学系を介して前記マスクのパターンを感光基板上へ露光する投影露光装置において、前記投影光学系は、光路中の予め定めた位置に挿脱可能に設けられた回折光学素子を備えていることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
