特許
J-GLOBAL ID:200903027306364198

表面のプラズマ処理のための方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-212636
公開番号(公開出願番号):特開平10-060652
出願日: 1996年08月12日
公開日(公表日): 1998年03月03日
要約:
【要約】【課題】 物品の表面にダイヤモンド被覆を迅速にプラズマ化学蒸着でき、更に表面の迅速なエッチングを行うことができる表面処理装置及び方法。【解決手段】 高周波を用いたプラズマ源、金属製で、高周波エネルギーを電子サイクロトロン共鳴にカップリングし、プラズマ中のイオンを、波カップラー部材中の電気的に絶縁した室部材中に閉じ込める働きをする波カップラー部材、前記カップラー部材に高周波をカップリングするための導波管部材、及びプラズマに隣接して基体を取付けるためのステージ部材を有するプラズマ発生装置において、前記ステージ部材と室との間の室の開口部に取付けられた少なくとも一つの孔を有する伝導性板、前記孔を通り、前記孔とステージ部材との間の領域中にあるプラズマを通り、そこから取り出されるガス流のための入口及び出口、及び前記孔と前記ステージ部材との間に高周波を発生させる同調手段を具えたプラズマ発生装置。
請求項(抜粋):
UHF又はマイクロ波を含めた高周波を用いたプラズマ源、金属製であり、場合により前記プラズマの周りの静磁場を含む波カップラー部材で、高周波エネルギーを電子サイクロトロン共鳴にカップリングするのに役立ち、プラズマ中のイオンを、前記カップラー部材中の、前記カップラー部材の領域に対し近接して密封されて取付けられた電気的に絶縁した室部材中に閉じ込めるのに役立ち、一方の端に室部材からの開口を有する、波カップラー部材;前記カップラー部材に高周波をカップリングするための導波管部材;及び前記カップラー部材の一部分を形成し、プラズマに隣接して基体を取付けるために与えられているステージ部材を有する、プラズマで基体を処理するためのプラズマ発生装置において、(a) 前記ステージ部材と室との間の室からの開口部に取付けられた少なくとも一つの孔を有する伝導性板、(b) 前記孔を通り、前記孔とステージ部材との間の領域中にあるプラズマを通り、その領域から取り出されるガス流のための入口及び出口、及び(c) 前記孔と前記ステージ部材との間に高周波を発生させるための同調手段、を具えた改良装置。
IPC (8件):
C23C 16/50 ,  C23C 16/26 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46 ,  B23P 15/32
FI (8件):
C23C 16/50 ,  C23C 16/26 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 C ,  B23P 15/32 ,  H01L 21/302 B
引用特許:
審査官引用 (2件)

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