特許
J-GLOBAL ID：200903027310805344
光ディスク製造用スタンパ及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-284280
公開番号（公開出願番号）：特開平7-121913
出願日： 1993年10月19日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 露光装置に改造を施すことなく、レーザの集光ビームによる露光幅よりも幅の狭い溝パターンを有する光ディスクを製造する。【構成】 フォトレジスト塗布工程でガラス基板1にポジ型フォトレジスト膜2を塗布し、幅広グルーブ露光工程でトラックピッチを集光ビームの露光幅の2倍未満に設定してポジ型フォトレジスト膜2に露光部5A・・を形成し、現像工程でガラス基板1にパターン6A・・を形成し、第1の電鋳工程でポジ型フォトレジスト膜2に金属層8を形成し、マザー作製工程でマザー10を作製し、第2の電鋳工程でマザー10に金属層11を形成し、スタンパ作製工程でスタンパ13を作製し、樹脂成形工程でスタンパ13を用い樹脂成形を行い光ディスク原盤15を作製し、光ディスク作製工程で光ディスク原盤15からスタンパ13を剥離し光ディスク16を作製する。
請求項（抜粋）：
スタンパ本体と,当該スタンパ本体の表面に等間隔で形成された複数のパターンとを具備して成り、樹脂成形により前記各パターンを樹脂に転写して光ディスクを製造するための光ディスク製造用スタンパにおいて、前記パターン中心間のピッチを当該パターンの幅の2倍未満に設定して成ることを特徴とする光ディスク製造用スタンパ。
引用特許：
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