特許
J-GLOBAL ID：200903027327193598
浸炭炉の制御方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-147320
公開番号（公開出願番号）：特開平5-230527
出願日： 1991年06月19日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：
【要約】【目的】 連続浸炭炉において、被浸炭処理部材の各浸炭位置における浸炭度の履歴に基づいて浸炭条件のばらつきをなくし、また、浸炭条件変更時にも処理を停滞させることなく、生産性を向上させることを目的とする。【構成】 少なくとも浸炭処理部と拡散処理部のヒータを浸炭処理位置毎に個別に温度調節可能な連続浸炭炉において、被浸炭処理部材の各浸炭処理位置における浸炭基準データを読み込み、少なくとも浸炭処理工程と拡散処理工程の炉中の各部位の温度と、炭素濃度を検出し、検出した温度と炭素濃度により、各位置における被浸炭処理部材の浸炭量を演算し、被浸炭処理部材の各位置における浸炭量を積算して、被浸炭処理部材の浸炭履歴を演算し、被浸炭処理部材の各位置における浸炭処理終了時の浸炭履歴と、その位置における浸炭基準データとを比較し、その差に応じて次の浸炭処理位置における浸炭条件を決定して制御を行う。
請求項（抜粋）：
昇温処理部、浸炭処理部、拡散処理部、急冷処理部、および焼入処理部を備え、少なくとも前記浸炭処理部と拡散処理部のヒータは被浸炭処理部材を収めたトレイの停止位置毎に個別に温度調節可能であり、トレイを断続的に浸炭炉内を移動させて浸炭処理する連続浸炭炉の制御方法であって、前記被浸炭処理部材の各浸炭処理位置における浸炭基準データを読み込む段階と、少なくとも浸炭処理工程と拡散処理工程の炉中の各部位の温度と、炭素濃度を検出する段階と、検出した温度と炭素濃度により、各位置における被浸炭処理部材の浸炭量を演算する段階と、被浸炭処理部材の各位置における浸炭量を積算して、被浸炭処理部材の浸炭履歴を演算する段階と、被浸炭処理部材の各位置における浸炭処理終了時の浸炭履歴と、その位置における浸炭基準データとを比較し、その差に応じて次の浸炭処理位置における浸炭条件を決定する段階と、を備えることを特徴とする浸炭炉の制御方法。
IPC (4件)：
C21D 1/74
, C23C 8/20
, F27B 9/40
, C21D 1/06
