スルホニルイミド化合物の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤田邦彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-008448
公開番号（公開出願番号）：特開2001-288193
出願日： 2001年01月17日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】【課題】一般式(I) MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)で示されるスルホニルイミド(スルホンイミド)化合物を工業的に容易に、かつ、安価に、さらに、効率良く製造する。【解決手段】一般式(II) Rf SO2Xで示されるスルホニルハロゲン化物の少なくとも一つと、無水アンモニアまたはアンモニウム塩と、一般式(III) MFで示されるフッ素化合物とを反応させる。(ここに、Xは元素周期表VIIb族のハロゲン元素のうち、FまたはClを、Mは元素周期表第Ia族のアルカリ金属のうち、Li、Na、K、Csのいずれかを、また、 Rf 1 、 Rf 2 は同じかあるいは異なる炭素原子数1〜12のフルオロアルキル基、ペルフルオロアルキル基、フルオロアリル基あるいはフルオロアルケニル基の直鎖状または分岐状化合物のいずれかを、 Rf は一般式(I) のRf 1 または Rf 2 と同様の基を表わす。)

請求項（抜粋）：

一般式(I) MN(SO2Rf 1)(SO2Rf 2)〔式中、Mは元素周期表第Ia族のアルカリ金属のうち、Li、Na、K、Csのいずれかを表わし、 Rf 1 、 Rf 2 は同じかあるいは異なる炭素原子数1〜12のフルオロアルキル基、ペルフルオロアルキル基、フルオロアリル基あるいはフルオロアルケニル基の直鎖状または分岐状化合物のいずれかを表わす。〕で示されるスルホニルイミド化合物の製造方法において、一般式(II) Rf SO2X〔式中、 Rf は一般式(I) における Rf 1 または Rf 2 と同様の基を表わし、Xは元素周期表VIIb族のハロゲン元素のうちFまたはClを表わす。〕で示されるスルホニルハロゲン化物の少なくとも一つと、無水アンモニアまたはアンモニウム塩と、一般式(III) MF〔式中、Mは元素周期表第Ia族のアルカリ金属のうち、Li、Na、K、Csのいずれかを表わす。〕で示されるフッ素化合物とを反応させることを特徴とするスルホニルイミド化合物の製造方法。

IPC (5件)：

C07F 1/00 , C07C311/48 , C07F 1/02 , C07F 1/04 , C07F 1/06

FI (5件)：

C07F 1/00 E , C07C311/48 , C07F 1/02 , C07F 1/04 , C07F 1/06

Fターム (15件)：

4H006AA02 , 4H006AC90 , 4H006BE14 , 4H006BE61 , 4H048AA02 , 4H048AC90 , 4H048BE14 , 4H048BE61 , 4H048BE90 , 4H048VA11 , 4H048VA20 , 4H048VA30 , 4H048VA40 , 4H048VA50 , 4H048VB10

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