特許
J-GLOBAL ID：200903027330855143
ペリクル及びマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
日向寺 雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-126668
公開番号（公開出願番号）：特開2005-309129
出願日： 2004年04月22日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【目的】 無機ペリクルのペリクル膜のたわみを低減することを目的とする。【構成】 ペリクル膜102と、形状記憶合金を用いて形成され、前記ペリクル膜102を保持し、前記形状記憶合金が形状回復することで前記保持された前記ペリクル膜102に引っ張り力を与えるフレーム101と、を備えたことを特徴とする。前記フレーム101は、前記形状記憶合金により環状に形成され、自己を内側に変形させた状態で前記ペリクル膜102を貼り付けたことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ペリクル膜と、
形状記憶合金を用いて形成され、前記ペリクル膜を保持し、前記形状記憶合金が形状回復することで前記保持された前記ペリクル膜に引っ張り力を与えるフレームと、
を備えたことを特徴とするペリクル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/14 J
, H01L21/30 502P
