特許

J-GLOBAL ID：200903027339598950

真空吸引装置

発明者： 池上 一三
出願人/特許権者： 有限会社池上設計事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-269169
公開番号（公開出願番号）：特開2001-055999
出願日： 1999年08月17日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【目的】 吸引補助板の外周部が直接被吸引物に触れなくし、吸引補助板の吸引物との接触による変形の少ない真空吸引装置を得る。【構成】本体1の一方の端面の圧縮空気入口3から圧縮空をとり入れ、内側に設けた空気穴4,空気穴5を通り空気室6に圧縮空気を導く、そして、吸引補助板2を本体1と隙間を持たせて固定し、空気室6の圧縮空気をこの隙間から噴出させ、吸引補助板側に被吸引物を吸引させる。このとき本体1の端面に勾配を設ける等端面を凹状にへこませ、吸引補助板2の外周部を、この凹状へこみ部内側に収め、被吸引物が直接吸引補助板2の外周部に接触しないようにした真空吸引装置。

請求項（抜粋）：

本体1の端面に吸着補助板2を微小な隙間を設けてを固定しこの隙間より圧縮空気を噴射し真空を発生させ被吸引物を吸引させる真空吸引装置において、本体1の端面に勾配を設ける等端面を凹状にへこませ、吸引補助板2の外周部を、本体1端面の凹状へこみ部内側に収めることを特徴とする真空吸引装置。

IPC (2件)：

F04F 5/20 ,  F04F 5/46

FI (2件)：

F04F 5/20 C ,  F04F 5/46 A

Fターム (8件)：

3H079AA18 ,  3H079AA24 ,  3H079AA30 ,  3H079BB10 ,  3H079CC03 ,  3H079CC05 ,  3H079DD03 ,  3H079DD18