特許

J-GLOBAL ID：200903027341005761

電子ビーム描画方法およびその描画装置

発明者： 太田 洋也 ,  松坂 尚 ,  河野 利彦 ,  河崎 勝活
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-167226
公開番号（公開出願番号）：特開平6-013299
出願日： 1992年06月25日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：

【要約】【構成】電子ビーム描画装置の試料ステージ106の温度を温度センサ107で測定し、試料ステージ106の温度変化量と熱膨張率から試料105のずれ量を制御計算機110において算出し、偏向系104またはレーザ測長系108に補正を加えることによって、位置精度の高い描画を行う。【効果】試料ステージの温度変化による伸縮を補正して、描画パターンの位置誤差を減少させることができる。

請求項（抜粋）：

電子ビームを偏向する偏向器と試料を機械的に移動可能な試料ステージと前記試料ステージの温度を測定する機構と前記試料ステージの位置を測定する機構とを具備する電子ビーム描画装置でパターンの形成を行う電子ビーム描画方法において、描画開始時からの前記試料ステージの温度変化量と前記試料ステージの材質の熱膨張係数から前記試料ステージ上の試料のずれ量を算出し前記電子ビームの照射位置の補正を行うことを特徴とする電子ビーム描画方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/305