特許
J-GLOBAL ID：200903027353338570
真空立射出鋳造方法とその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-155953
公開番号（公開出願番号）：特開平5-318077
出願日： 1992年05月22日
公開日（公表日）： 1993年12月03日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、活性金属でも巣の発生や酸化物の巻き込みがなく、極めて清浄な形で高速鋳造する事の出来る真空立射出鋳造方法の提供をその目的とする。【構成】 金属塊(K)を射出スリーブ(17)に投入し、射出スリーブ(17)を取り囲む雰囲気を真空状態にした後、前記真空状態を保持しつつ溶解し、然る後、射出スリーブ(17)を金型(A)の湯口(ウ)に接続して射出スリーブ(17)内の溶融金属(Y)を真空状態に保持された金型(A)内に射出充填する事を特徴とする。
請求項（抜粋）：
金属塊を射出スリーブに投入し、射出スリーブを取り囲む雰囲気を真空状態にした後、前記真空状態を保持しつつ溶解し、然る後、射出スリーブを金型の湯口に接続して射出スリーブ内の溶融金属を真空状態に保持された金型内に射出充填する事を特徴とする真空立射出鋳造方法。
IPC (3件)：
B22D 17/14
, B22D 17/02
, B22D 17/30
