特許
J-GLOBAL ID:200903027375780551
ハロゲン化m-フェニレンジアミン化合物の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
八田 幹雄 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-041844
公開番号(公開出願番号):特開2001-226329
出願日: 2000年02月18日
公開日(公表日): 2001年08月21日
要約:
【要約】【課題】 高選択率でかつ高収率でハロゲン化m-フェニレンジアミン化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 下記式(1):【化1】(ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R1及びR2は、それぞれ独立して、水酸基、炭素原子数1〜5のアルキル基または炭素原子数1〜5のアルコキシ基を表わし;mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下である)で示されるフタロイル化合物(I)を強酸中でアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリウムと反応させることからなる下記式(2):【化2】(ただし、X、m及びnは上記式(1)における定義と同様である)で示されるハロゲン化m-フェニレンジアミン化合物の製造方法。
請求項(抜粋):
下記式(1):【化1】ただし、Xは塩素原子または臭素原子を表わし;R1及びR2は、それぞれ独立して、水酸基、炭素原子数1〜5のアルキル基または炭素原子数1〜5のアルコキシ基を表わし;mは1〜4の整数であり;nは0〜3の整数であり;およびm+nは4以下である、で示されるフタロイル化合物(I)を強酸中でアジ化水素酸および/またはアジ化ナトリウムと反応させることからなる下記式(2):【化2】ただし、X、m及びnは上記式(1)における定義と同様である、で示されるハロゲン化m-フェニレンジアミン化合物の製造方法。
IPC (3件):
C07C209/56
, C07C211/52
, C07B 61/00 300
FI (3件):
C07C209/56
, C07C211/52
, C07B 61/00 300
Fターム (35件):
4H006AA02
, 4H006AC30
, 4H006AC46
, 4H006AC52
, 4H006AC59
, 4H006BA02
, 4H006BA06
, 4H006BA28
, 4H006BA29
, 4H006BA32
, 4H006BA36
, 4H006BA37
, 4H006BA51
, 4H006BA69
, 4H006BB11
, 4H006BB12
, 4H006BB15
, 4H006BB17
, 4H006BB25
, 4H006BB31
, 4H006BC10
, 4H006BC11
, 4H006BC19
, 4H006BC31
, 4H006BC34
, 4H006BE02
, 4H006BE27
, 4H006BE50
, 4H006BE51
, 4H006BE61
, 4H006BE90
, 4H006BU46
, 4H039CA71
, 4H039CA73
, 4H039CG90
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特公昭47-006294
-
特開平2-001432
-
特開昭61-106552
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