特許
J-GLOBAL ID：200903027376941540
流体噴射装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 須澤 修
, 宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-316658
公開番号（公開出願番号）：特開2009-136520
出願日： 2007年12月07日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：
【課題】流体噴射と吸引を行える流体噴射装置を提供する。【解決手段】流体噴射装置100は、流体室60の容積を縮小して流体をパルス状に噴射する流体噴射装置であって、流体噴射部10は、筐体70の内部に、流体室60と、流体室60に流体を供給する入口流路32と、流体室60から流体噴射開口部30に流体を流動する出口流路31と、を備えて構成され、筐体70の後端部に嵌着され入口流路32に連通する流体供給チューブ81と、筐体70の外周部に開設され流体噴射によって発生する残渣を吸引する吸引開口部73,77から筐体70の後端部まで貫通する吸引溝74,78を有する。吸引溝74,78に連通する吸引チューブ82は、流体供給チューブ81の外周に配設されて二重チューブを構成し、流体供給チューブ81と吸引チューブ82との間に円環状の吸引路35が形成されている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
流体室の容積を縮小して流体をパルス状に噴射する流体噴射装置であって、
円筒状の筐体を備え、前記筐体の内部に前記流体室と、前記流体室に流体を供給する入口流路と、前記流体室から前記筐体の先端部に設けられる流体噴射開口部に流体を流動する出口流路と、流体噴射によって発生する残渣を吸引する吸引開口部と、前記吸引開口部から前記筐体の後端部まで貫通される吸引溝と、が設けられた流体噴射部と、
前記筐体の後端部に嵌着されて前記入口流路に連通する流体供給チューブと、
前記流体供給チューブの外周に配設されて二重チューブ構造を構成する吸引チューブと、
が備えられ、
前記流体供給チューブの外郭と前記吸引チューブの内郭との間に構成される円環状の吸引路が、前記吸引溝に連通されていることを特徴とする流体噴射装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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