特許

J-GLOBAL ID：200903027381766820

シロキサン含有セルロース誘導体およびその製造方法

発明者： 山本 昭 ,  内田 哲 ,  大島 光芳 ,  一戸 省二 ,  山崎 敏夫
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-327346
公開番号（公開出願番号）：特開平6-145201
出願日： 1992年11月12日
公開日（公表日）： 1994年05月24日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はセルロースとシリコーンの両方の性質を具備した文献未載の新規で、ガス分離膜、化粧品材料、接着剤、繊維処理剤などとして有用とされるシロキサン含有セルロース誘導体およびその製造方法の提供を目的とするものである。【構成】 本発明のシロキサン含有セルロース誘導体は、一般式【化8】[ここにCell-はセルロースまたはセルロース誘導体のグルコース残基、R1は炭素数1〜8の1価有機基、R2、R3、R4は炭素数1〜8の1価有機基または-OSiR5R6R7で示されるシロキシ基(R5、R6、R7は炭素数1〜8の1価有機基)、nは1〜10の整数、aは0、1または2、x、yはx/yが 0.1以上]で示される、重合度が50〜 4,000の置換シリルアルキルカルバミド酸セルロース誘導体であり、この製造方法は水酸基を有するセルロース誘導体を一般式【化9】で示されるイソシアネート基含有オルガノポリシロキサンと反応させることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】[ここにCell-はセルロースまたはセルロース誘導体のグルコース残基、R1は炭素数1〜8の1価有機基、R2、R3、R4は炭素数1〜8の1価有機基または-OSiR5R6R7で示されるシロキシ基(R5、R6、R7は炭素数1〜8の1価有機基)、nは1〜10の整数、aは0、1または2、x、yはx/yが 0.1以上]で示される、重合度が50〜 4,000の置換シリルアルキルカルバミド酸セルロース誘導体。

IPC (5件)：

C08B 15/06 ,  B01D 71/12 ,  B01D 71/70 500 ,  C09D101/08 PCT ,  C09J101/08 JAE