光強度分布シミュレーション方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-009011
公開番号（公開出願番号）：特開平7-220995
出願日： 1994年01月31日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：

【要約】【目的】変形照明に対応して、シミュレーション精度を向上させることのできる光強度分布シミュレーション方法を提供する。【構成】インテグレータ1は、有効範囲3に対応して、複数の同型の単体レンズ2を組立てて形成された光学素子であり、インテグレータ1の各単体レンズ2の中心には主点光源4aが配置される。インテグレータ1上の各位置における光強度は、インテグレータ1全体に亘る各有効光源による光強度分布がカウス分布であるものと仮定して近似式を求め、その近似式の各位置における値に比例した値が設定されて、インテグレータがモデル化される。

請求項（抜粋）：

インテグレータにより形成される有効光源を有限個の点光源に分割し、当該点光源によりそれぞれ照明されるレチクルパターンの投影像の光強度分布を計算して、前記点光源によるレチクルパターンの光強度分布を合成する工程を有する、半導体装置のリソグラフィー工程において用いられる光強度分布シミュレーション方法において、前記インテグレータを形成する複数の単体レンズにおける光強度分布を、それぞれ少なくとも1個以上の点光源によりモデル化する手順を介して、前記レチクルパターンの光強度分布を生成することを特徴とする光強度分布シミュレーション方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 516 D

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