特許
J-GLOBAL ID：200903027419692272
光学素子成形用型及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-091926
公開番号（公開出願番号）：特開平6-072728
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1994年03月15日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、ガラスの成形に於て膜の剥離やクラックが発生しない表面欠陥の少ない鏡面を有する型を提供することにある。【構成】 本発明は、ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型において、該型母材の少なくとも成形表面が、炭素と型を構成する少なくとも1種類以上の元素からなるミキシング層である光学素子成形用型、及びイオンエネルギー5keV以上の炭素イオンビームにより上記ミキシング層を形成する光学素子成形用型の製造方法である【効果】 本発明は、ガラスの成形に於て膜の剥離やクラックが発生しない表面欠陥の少ない鏡面を有する型を可能にした。この型を用いガラス光学素子を成形するとガラスと型の離型性が極めて良好であり、表面粗さ、面精度、透過率、形状精度の良好な成形品が長期間に渡って得られる。
請求項（抜粋）：
ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型において、該型母材の少なくとも成形表面が、炭素と型を構成する少なくとも1種類以上の元素からなり、かつ炭素原子濃度が表面に向かって増大し母材側に向かって減少し、その他の原子濃度が表面に向かって減少し母材側に向かって増大しているミキシング層であることを特徴とする光学素子成形用型。
引用特許：
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