特許

J-GLOBAL ID：200903027420738669

シクロデキストリン誘導体の製造方法

発明者： 吉永 雅信
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-251498
公開番号（公開出願番号）：特開平7-102003
出願日： 1993年10月07日
公開日（公表日）： 1995年04月18日
要約：

【要約】【目的】シクロデキストリンのアシル化誘導体を、短時間でしかも高収率で得ることができる方法を提供する。【構成】シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体に、アセチルシアナイド等の酸シアノ化物を反応させてアシル化することを特徴とするシクロデキストリン誘導体の製造方法。

請求項（抜粋）：

シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体に酸シアノ化物を反応させてアシル化することを特徴とするシクロデキストリン誘導体の製造方法。