特許

J-GLOBAL ID：200903027422289870

感光性組成物およびその製造方法

発明者： 内藤 卓哉 ,  木原 尚子 ,  斎藤 聡 ,  中瀬 真
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-245210
公開番号（公開出願番号）：特開平9-068795
出願日： 1995年08月31日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：

【要約】【課題】 レジストパターンをエッチングマスクとして用い、酸性溶液でエッチングする際に、レジストパターンと遮光膜等のエッチング対象部材との間のエッチング液の浸入を防止し、超微細パターンの形成の精度を向上させる感光性組成物を提供する。【解決手段】 酸によって分解または架橋する置換基を有する化合物と、化学放射線の照射によって酸を発生する化合物とを含有する感光性組成物である。分子量の1000以下の低分子有機酸成分の含有量が100ppm以下であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

酸によって分解または架橋する置換基を有する化合物と、化学放射線の照射によって酸を発生する化合物とを含有し、分子量1000以下の低分子有機酸成分の含有量が100ppm以下であることを特徴とする感光性組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R