特許

J-GLOBAL ID：200903027424138836

集光光学系、光源ユニット、照明光学装置および露光装置

発明者： 村上 勝彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-196194
公開番号（公開出願番号）：特開2005-032972
出願日： 2003年07月14日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

【課題】補助集光ミラーで反射されたEUV光がプラズマにより吸収されずに集光される光源ユニットを用いて、マスクパターンを感光性基板上に忠実に且つ高スループットで転写することのできる露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】EUV光の光源ユニットであって、EUV光を放出するプラズマ光源と、回転楕円面の反射面を有し、その第1の焦点に該プラズマ光源が置かれた集光ミラーと、球面の反射面を有し、球心が該プラズマ光源の位置とずらされているように配置された補助集光ミラーとを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

EUV光の光源ユニットであって、 EUV光を放出するプラズマ光源と、 回転楕円面の反射面を有し、その第1の焦点に該プラズマ光源が置かれた集光ミラーと、 球面の反射面を有し、球心が該プラズマ光源の位置とずらされているように配置された補助集光ミラーとを備えることを特徴とする光源ユニット。

IPC (5件)：

H01L21/027 ,  G21K1/06 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02 ,  H05G2/00

FI (5件)：

H01L21/30 531S ,  G21K1/06 A ,  G21K5/00 Z ,  G21K5/02 X ,  H05G1/00 K

Fターム (14件)：

4C092AA03 ,  4C092AA04 ,  4C092AA05 ,  4C092AA06 ,  4C092AA07 ,  4C092AB21 ,  4C092AB22 ,  4C092AC09 ,  4C092BD09 ,  5F046CB03 ,  5F046CB13 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03