特許

J-GLOBAL ID：200903027428518560

異物検査装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 岩永 武彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-043595
公開番号（公開出願番号）：特開平8-220009
出願日： 1995年02月08日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：

【要約】【目的】 レチクルやペリクル面上に付着したゴミ等の異物を高精度に検出することのできる異物検査装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を得ること。【構成】 光源手段からの光束を検査面上に導光し、該検査面上の異物から生ずる散乱光を検出手段で検出し、該検出手段からの信号を信号処理手段で処理して、該検査面上の2次元的な位置座標毎に異物の有無状態を検出する際、該信号処理手段は該検査面上の異物からの散乱光に基づいて該検出手段で得られる各位置座標の信号のうち、最大値を与える最大位置座標を求め記憶手段に記憶し、該最大位置座標と隣接する周辺位置座標に相当する信号を調整して出力していること。

請求項（抜粋）：

光源手段からの光束を検査面上に導光し、該検査面上の異物から生ずる散乱光を検出手段で検出し、該検出手段からの信号を信号処理手段で処理して、該検査面上の2次元的な位置座標毎に異物の有無状態を検出する際、該信号処理手段は該検査面上の異物からの散乱光に基づいて該検出手段で得られる各位置座標の信号のうち、最大値を与える最大位置座標を求め記憶手段に記憶し、該最大位置座標と隣接する周辺位置座標に相当する信号を調整して出力していることを特徴とする異物検査装置。

IPC (3件)：

G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

G01N 21/88 E ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/66 J