特許
J-GLOBAL ID：200903027439701880
ポジ型感光性組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-147688
公開番号（公開出願番号）：特開平11-338151
出願日： 1998年05月28日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：
【要約】【課題】 深紫外線、特にArF エキシマレーザー光に対して好適で、特に高いドライエッチング耐性と、密着性、残膜率、レジストプロファイルが優れ、現像欠陥の問題を生じないとともに、半導体製造プロセス上安定性に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 環状脂肪族炭化水素骨格構造単位と酸分解性基を有する特定の構造の構造単位を含む共重合体、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、含窒素塩基性化合物及びフッソ系および/またはシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。
請求項（抜粋）：
(A)環状脂肪族炭化水素骨格構造単位と酸分解性基を有する下記一般式(I)で表される構造単位を含む共重合体、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)含窒素塩基性化合物及び(D)フッソ系および/またはシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】一般式(I)中、Rは、【化2】を表す。R1 、R2 、R4 、R5は各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。R3、R6は各々独立に、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基、環状エーテル基、又はラクトン基を表す。nは0又は1を表す。
IPC (6件)：
G03F 7/039 601
, G03B 27/32
, G03F 7/004 504
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, G03B 27/32 F
, G03F 7/004 504
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 R
