特許

J-GLOBAL ID：200903027453578314

集塵用ハニカムフィルタ及びその製造方法

発明者： 左近 淳司
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-260040
公開番号（公開出願番号）：特開2001-079321
出願日： 1999年09月14日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：

【要約】【課題】 捕捉効率が高く、圧力損失が小さいハニカムフィルタを、簡単な装置にて容易に製造でき、更には多数のフィルタを均一な品質で製造することが可能なハニカムフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】 ハニカム状の多孔質基材の表面に多孔質膜が形成された集塵用ハニカムフィルタの製造方法である。多孔質基材のセル内部に、50%粒子径(D50:μm)が多孔質基材の平均気孔径(P:μm)の2/3倍以上、1倍以下であって、かつ、粒度分布が下記式(1)の範囲内にある骨材粒子から調製したスラリーを供給して成膜し、次いで焼成する。D50/(D50-D10)≧1.5 ... (1)(但し、D50:50%粒子径(μm)、D10:10%粒子径(μm))

請求項（抜粋）：

ハニカム状の多孔質基材の表面に、当該多孔質基材と比較して気孔径が小さい多孔質膜が少なくとも1層形成された、集塵用ハニカムフィルタの製造方法であって、前記多孔質基材のセル内部に、50%粒子径(D50:μm)が前記多孔質基材の平均気孔径(P:μm)の2/3倍以上、1倍以下であって、かつ、粒度分布が下記式(1)の範囲内にある骨材粒子から調製したスラリーを供給し、当該スラリー中の水分を前記多孔質基材の気孔を透過させて除去することにより成膜し、次いで焼成することを特徴とする集塵用ハニカムフィルタの製造方法。D50/(D50-D10)≧1.5 ... (1)(但し、D50:50%粒子径(μm)、D10:10%粒子径(μm))

IPC (3件)：

B01D 39/20 ,  B01D 46/00 302 ,  C04B 38/00 304

FI (3件)：

B01D 39/20 D ,  B01D 46/00 302 ,  C04B 38/00 304

Fターム (12件)：

4D019AA01 ,  4D019BA05 ,  4D019BB10 ,  4D019BD01 ,  4D019CA01 ,  4D019CB06 ,  4D058JA32 ,  4D058JB06 ,  4D058JB39 ,  4D058SA20 ,  4G019FA12 ,  4G019GA04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-231387