特許
J-GLOBAL ID：200903027454414730

化学機械研磨用水系分散体、該分散体を調製するためのキット、および化学機械研磨用水系分散体の調製方法

発明者：
元成 正之

元成 正之 について

, 
仕田 裕貴

仕田 裕貴 について

, 
竹村 彰浩

竹村 彰浩 について

, 
下山 裕司

下山 裕司 について

, 
浪江 祐司

浪江 祐司 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (2件)： 大渕 美千栄 ,  布施 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-232266
公開番号（公開出願番号）：特開2009-065001
出願日： 2007年09月07日
公開日（公表日）： 2009年03月26日
要約：
【課題】金属膜や絶縁膜に欠陥を引き起こすことなく、高研磨速度と高平坦化特性を両立させながら、金属膜を低摩擦で均一に安定して研磨することができる化学機械研磨用水系分散体を提供する。【解決手段】(A)下記式(1)で示される繰り返し単位を含有する重合体と、(B)酸化剤と、(C)アミノ酸と、(D)砥粒と、を含む化学機械研磨用水系分散体。(式中、Arは、ナフタレン環を表す。Rは、それぞれ独立的に、炭素原子数が1〜10の置換または非置換の炭化水素基、炭素原子数が1〜10の置換または非置換のアルコキシル基、置換または非置換のフェノキシ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、および-SO3M基(Mは、1価の陽イオンを表す。)から選ばれる1種を表す。Yは、単結合または炭素原子数が1〜10の置換または非置換の2価の炭化水素を表す。nは、0〜5の整数を表す。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記式(1)で示される繰り返し単位を含有する重合体と、 (B)酸化剤と、(C)アミノ酸と、(D)砥粒と、 を含む、化学機械研磨用水系分散体。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14
FI (3件)：
H01L21/304 622D ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550Z
Fターム (5件)：
3C058AA07 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM