特許

J-GLOBAL ID：200903027461781447

転写マスクの製造方法

発明者： 雨宮 勲
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-158386
公開番号（公開出願番号）：特開平8-328236
出願日： 1995年06月01日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：

【要約】【目的】 パターンサイズにかかわらず垂直にトレンチエッチングすることが可能であり、したがってマスク全面にわたり非常に高い寸法精度を有する転写マスクを作製できる転写マスクの製造方法を提供する。【構成】 エッチングマスク層をリソグラフィー技術を用いてパターンニングする際に、一定エッチング条件下でテーパーエッチングまたは逆テーパーエッチングされる開口のうち少なくとも一部の開口内に孤立補助パターンを形成し、開口のドライエッチングを行う。

請求項（抜粋）：

支持枠部に支持された薄膜部に開口を形成してなる転写マスクの製造方法であって、基板表面にエッチングマスク層を形成し、このエッチングマスク層をリソグラフィー技術を用いて所望の開口形状にパターンニングした後、このパターンニングされたエッチングマスク層をマスクとしてドライエッチング技術により基板表面を所定の深さにトレンチエッチング加工して、薄膜部または薄膜部となるべき部分に開口を形成する工程と、基板裏面をエッチングにより加工して支持枠部に支持された薄膜部を形成する工程とを含む転写マスクの製造方法において、エッチングマスク層をリソグラフィー技術を用いてパターンニングする際に、一定エッチング条件下でテーパーエッチングまたは逆テーパーエッチングされる開口のうち少なくとも一部の開口内に孤立補助パターンを形成することを特徴とする転写マスクの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501

FI (2件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 501