特許
J-GLOBAL ID:200903027463619132
光学補償フィルム、及びその製造方法、偏光板、並びに、液晶表示装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
廣田 浩一
, 流 良広
, 松田 奈緒子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-244493
公開番号(公開出願番号):特開2009-098664
出願日: 2008年09月24日
公開日(公表日): 2009年05月07日
要約:
【課題】偏光板を作製して高湿度下に置いた場合の耐久性が高く、かつ配向性を良好に保つことができる光学補償フィルム、及びその製造方法、偏光板、並びに、液晶表示装置の提供。【解決手段】支持体上に、配向膜と、液晶性化合物を含む光学異方性層とが少なくともこの順に積層され、光重合開始剤が前記配向膜に含まれ、前記光重合開始剤の最大吸収波長が、前記液晶性化合物の最大吸収波長より少なくとも20nm長いことを特徴とする光学補償フィルム等である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
支持体上に、配向膜と、液晶性化合物を含む光学異方性層とが少なくともこの順に積層され、光重合開始剤が前記配向膜に含まれ、前記光重合開始剤の最大吸収波長が、前記液晶性化合物の最大吸収波長より少なくとも20nm長いことを特徴とする光学補償フィルム。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (51件):
2H149AA02
, 2H149AB05
, 2H149AB12
, 2H149AB13
, 2H149BA02
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149DB03
, 2H149DB04
, 2H149DB06
, 2H149DB15
, 2H149EA02
, 2H149EA12
, 2H149EA22
, 2H149FA02X
, 2H149FA02Z
, 2H149FA03W
, 2H149FA03Z
, 2H149FA33Y
, 2H149FA34Y
, 2H149FA58Y
, 2H149FA59Y
, 2H149FA63
, 2H149FD21
, 2H149FD25
, 2H191FA22X
, 2H191FA22Z
, 2H191FA30
, 2H191FA94X
, 2H191FA94Z
, 2H191FA95
, 2H191FA95Z
, 2H191FB02
, 2H191FB04
, 2H191FB05
, 2H191FB22
, 2H191FC33
, 2H191FC35
, 2H191FC37
, 2H191FD34
, 2H191GA08
, 2H191GA19
, 2H191GA22
, 2H191GA23
, 2H191HA06
, 2H191HA11
, 2H191HA13
, 2H191KA02
, 2H191LA06
, 2H191PA86
, 2H191PA87
引用特許:
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