特許
J-GLOBAL ID:200903027467118529
低刺激性組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
社本 一夫 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-534179
公開番号(公開出願番号):特表2002-505265
出願日: 1999年03月02日
公開日(公表日): 2002年02月19日
要約:
【要約】本発明は、40-100の平均エトキシル化度を有するジイソステアリン酸ポリエチレングリコールを、安定な化粧用組成物、特に低刺激性脱臭剤を処方するための使用に適した石鹸基剤ゲル組成物の成分として使用する。
請求項(抜粋):
石鹸基剤ゲル化組成物であって、抗刺激性剤として、40〜100の平均エトキシル化度を有する少なくとも一つのジイソステアリン酸ポリエチレングリコールを含む、前記組成物。
IPC (3件):
A61K 7/32
, A61K 7/00
, A61K 7/48
FI (4件):
A61K 7/32
, A61K 7/00 C
, A61K 7/00 J
, A61K 7/48
Fターム (29件):
4C083AA112
, 4C083AB052
, 4C083AC101
, 4C083AC121
, 4C083AC122
, 4C083AC241
, 4C083AC242
, 4C083AC401
, 4C083AC402
, 4C083AC532
, 4C083AC812
, 4C083AD042
, 4C083AD112
, 4C083BB01
, 4C083BB41
, 4C083BB48
, 4C083BB51
, 4C083CC02
, 4C083CC17
, 4C083CC19
, 4C083DD11
, 4C083DD22
, 4C083DD31
, 4C083DD41
, 4C083EE07
, 4C083EE10
, 4C083EE12
, 4C083EE17
, 4C083EE18
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