特許
J-GLOBAL ID:200903027486259729
乾燥装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-186040
公開番号(公開出願番号):特開2002-005573
出願日: 2000年06月21日
公開日(公表日): 2002年01月09日
要約:
【要約】【課題】 基材に設けられた塗膜の性質を劣化させたり赤外線ヒータの温度低下を招くことのない赤外線乾燥装置を提供する。【解決手段】 赤外線乾燥装置10は塗膜が形成された基材15が走行するとともに、第1乾燥ゾーン10aと第2乾燥ゾーン10bとに仕切られた乾燥炉11と、乾燥炉11の第1乾燥ゾーン10a内の基材15上方に設けられた赤外線ヒータ16とを備えている。赤外線ヒータ16の上方に給気装置18と排気装置19が設けられ、給気装置18と排気装置19によって赤外線ヒータ16上方に、赤外線ヒータ16と平行な空気流が形成される。基材15の塗膜表面から除去された蒸発溶剤は赤外線ヒータ16の上方へ達し、この空気流により運ばれる。基材15はその後第2乾燥ゾーン10b内で、熱風吹付装置26からの熱風により更に乾燥する。
請求項(抜粋):
塗膜が形成された基材が内部を走行するとともに、この内部が走行する基材の上流側から順に第1乾燥ゾーンと、第2乾燥ゾーンとに仕切られた乾燥炉と、第1乾燥ゾーン内に設けられた第1乾燥機構と、第2乾燥ゾーン内に設けられた第2乾燥機構とを備え、第1乾燥機構は第1乾燥ゾーン内の基材の上方に基材に略平行に配置された赤外線ヒータと、第1乾燥ゾーン内の赤外線ヒータ上方に配置された、空気を給気する給気装置および空気を排気する排気装置とを有し、給気装置と排気装置とによって赤外線ヒータ上方に赤外線ヒータと平行な空気流を形成することを特徴とする乾燥装置。
IPC (10件):
F26B 23/04
, B05C 9/14
, F26B 15/00
, F26B 21/00
, F27B 9/02
, F27B 9/04
, F27B 9/10
, F27D 7/02
, H01J 9/46
, H01J 11/02
FI (11件):
F26B 23/04 B
, B05C 9/14
, F26B 15/00 B
, F26B 21/00 C
, F27B 9/02
, F27B 9/04
, F27B 9/10
, F27D 7/02 Z
, F27D 7/02 A
, H01J 9/46 A
, H01J 11/02 Z
Fターム (25件):
3L113AA02
, 3L113AB06
, 3L113AC10
, 3L113AC55
, 3L113BA34
, 3L113CB26
, 3L113DA24
, 4F042AA07
, 4F042DB18
, 4F042DB26
, 4F042DC03
, 4K050AA05
, 4K050BA17
, 4K050CA13
, 4K050CC10
, 4K050CD05
, 4K050CD16
, 4K050CD22
, 4K050CG04
, 4K063AA09
, 4K063BA12
, 4K063CA03
, 4K063DA24
, 5C012AA09
, 5C040JA28
引用特許:
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