特許
J-GLOBAL ID:200903027487982572
定盤平面修正方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田中 宏 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-369320
公開番号(公開出願番号):特開2000-190199
出願日: 1998年12月25日
公開日(公表日): 2000年07月11日
要約:
【要約】【目的】ポリッシング加工機のプレッシャープレートとして使用されるセラミックスブロック等、極めて硬度の高い材料であってかつ、優れた平坦度や平行度および面粗さが要求されるものを被加工体として加工を行う加工機に用いる定盤の平面修正方法に関するものである。【構成】回転自在な定盤4と、該定盤に当接するプレッシャープレート3とを有するラッピング加工機において、前記プレッシャープレートの面に、複数個のペレット状のダイヤモンド砥石2を貼付したプレートを取り付け、油性の加工液を供給しつつ、前記定盤及びプレッシャープレートの少なくとも一方を回転しつつ定盤の面の修正を行なう方法を提供する。用いられるペレット状のダイヤモンド砥石は、砥粒としてJISR6001に定める研磨材の粒度の規定において40番より400番の範囲の番手のダイヤモンド砥粒を含むメタルボンド砥石であることが好ましい。また、ペレット状のダイヤモンド砥石は円盤状のプレート上において、その中央部を除いた円環状の部分に配列されていることが好ましい。
請求項(抜粋):
回転自在な定盤と、該定盤に当接するプレッシャープレートとを有するラッピング加工機において、前記プレッシャープレートの面に、複数個のペレット状のダイヤモンド砥石を貼付したプレートを取り付け、油性の加工液を供給しつつ、前記定盤およびプレッシャープレートの少なくとも一方を回転することを特徴とする定盤平面修正方法。
IPC (2件):
FI (2件):
B24B 37/00 A
, B24B 53/02
Fターム (10件):
3C047BB01
, 3C047EE18
, 3C058AA04
, 3C058AA09
, 3C058AA11
, 3C058AA12
, 3C058AA19
, 3C058AC04
, 3C058CB05
, 3C058CB10
引用特許:
審査官引用 (8件)
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定盤面修正用ドレッシング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-330378
出願人:株式会社アロイ
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電着砥石
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-303312
出願人:三菱マテリアル株式会社
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微細砥粒砥石を用いた加工方法および微細砥粒砥石加工用研削液
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-211643
出願人:トヨタ自動車株式会社, 豊田化学工業株式会社, 株式会社ミズホ
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特開平2-065967
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ラップ方法およびラップ盤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-141718
出願人:不二越機械工業株式会社
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特開昭55-031504
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特開平2-065967
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特開昭55-031504
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