特許
J-GLOBAL ID：200903027501102530
セラミックハニカム構造体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 求馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-077291
公開番号（公開出願番号）：特開2009-226350
出願日： 2008年03月25日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：
【課題】寸法精度、機械的強度、耐熱衝撃強度に優れたセラミックハニカム構造体の製造方法を提供する。 【解決手段】所定のセラミック材料と助剤とを混練したセラミック坏土100を、所定形状の格子溝を設けた成形型2から押出してセラミックハニカム成形体1FMDを成形する成形工程P4と、セラミックハニカム成形体1FMDを焼結温度よりも低い温度で仮焼してセラミックハニカム仮焼体1PREを形成する仮焼工程P6と、セラミックハニカム仮焼体1PREの周縁部を加工除去してセラミックハニカム加工体1SPDを形成する加工工程P7と、セラミックハニカム加工体1SPDの外周面に外周壁形成材料150を塗布して所定膜厚の外周壁151を形成する外周壁形成工程P8と、外周壁151とセラミックハニカム加工体1SPDとを同時に焼結して、一体のセラミックハニカム構造体1CFDとなす同時焼結工程P10とを具備する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
略筒状の外周壁内を所定形状の隔壁で区画して気体の流路となる複数のセルを設けたセラミックハニカム構造体の製造法において、
所定のセラミック材料と所定の助剤とを混練し、所定形状の格子溝を設けた成形型から押し出してセラミックハニカム成形体を成形する成形工程と、
上記セラミックハニカム成形体を焼結温度よりも低い温度で仮焼してセラミックハニカム仮焼体を形成する仮焼工程と、
該セラミックハニカム仮焼体の周縁部を加工除去してセラミックハニカム加工体を形成する加工工程と、
該セラミックハニカム加工体の外周面に外周壁形成材料を塗布して所定の膜厚の外周壁を形成する外周壁形成工程と、
該外周壁と上記セラミックハニカム加工体とを同時に焼結して、一体のセラミックハニカム構造体となす同時焼結工程とを具備することを特徴とするセラミックハニカム構造体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B01J35/04 301N
, B01J35/04 301M
, B01D39/20 D
4D019AA01
, 4D019BA05
, 4D019BB06
, 4D019BC12
, 4D019BD01
, 4D019CA01
, 4D019CB04
, 4D019CB06
, 4G169AA01
, 4G169AA11
, 4G169BA13A
, 4G169BA13B
, 4G169CA03
, 4G169EA19
, 4G169EA26
, 4G169EA30
, 4G169FB33
, 4G169FB67
